News Ticker

DNP เร่งการพัฒนากระบวนการผลิตโฟโต้มาสก์สำหรับกลวิธีพิมพ์หิน EUV รุ่น 2nm

Logo

เข้าร่วมโครงการ NEDO R&D ในฐานะผู้รับเหมาช่วง Rapidus –

TOKYO–(BUSINESS WIRE)–27 มีนาคม 2024

Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO: 7912) ได้เริ่มการพัฒนากระบวนการผลิตโฟโต้มาสก์สำหรับเซมิคอนดักเตอร์ลอจิกรุ่น 2 นาโนเมตร (10-9 เมตร) ที่รองรับรังสีอุลตร้าไวโอเลต (EUV) ระดับรุนแรงจากกลวิธีพิมพ์หิน ซึ่งเป็นกระบวนการที่ล้ำสมัยมากสำหรับกระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์

Image of EUV lithography with pellicle, a protective film for the photomask (Photo: Business Wire)

รูปภาพเกี่ยวกับภาพพิมพ์หินพร้อมเพลลิเคิล ซึ่งเป็นฟิล์มบางสำหรับป้องกันโฟโต้มาสก์ (ภาพถ่าย: Business Wire)

DNP จะทำหน้าที่เป็นผู้รับเหมาช่วงและจัดหาเทคโนโลยีที่พัฒนาขึ้นใหม่ให้กับ Rapidus Corporation (Rapidus) ในโตเกียวด้วยเช่นกัน Rapidus จะเข้าร่วมในโครงการวิจัยและพัฒนาโครงสร้างพื้นฐานที่มีการปรับแปลงสำหรับระบบสารสนเทศและการสื่อสารหลังยุค 5G ซึ่งริเริ่มโดย New Energy and Industrial Technology Development Organization (NEDO)

[ปูมหลัง]

เรามีการเสร้างสร้างความสามารถของเราในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ที่ล้ำสมัยด้วยผลผลิตและคุณภาพสูง และในปี 2016 DNP เป็นผู้ผลิตโฟโต้มาสก์สำหรับผู้ค้ารายแรกของโลกที่แนะนำเครื่องมือการเขียนมาสก์แบบมัลติบีม (MBMW)
ในปี 2023 เราได้เสร็จสิ้นการพัฒนากระบวนการผลิตโฟโต้มาสก์สำหรับภาพพิมพ์หิน EUV รุ่น 3 นาโนเมตร และเริ่มต้นการพัฒนาเทคโนโลยีรุ่น 2 นาโนเมตร เพื่อตอบสนองความต้องการในการย่อส่วน เราจะเริ่มการพัฒนากระบวนการผลิตโฟโต้มาสก์สำหรับภาพพิมพ์หิน EUV รุ่น 2 นาโนเมตรอย่างเต็มรูปแบบ รวมถึงการดำเนินงานสำหรับระบบภาพพิมพ์หินมาสก์รุ่นสองและสามในปีงบประมาณ 2024
DNP วางแผนที่จะนำระบบภาพพิมพ์หินมาสก์ MBMW รุ่นสองและสามมาสู่ระบบออนไลน์ในปีงบประมาณ 2024 โดยเร่งการพัฒนาโฟโต้มาสก์สำหรับภาพพิมพ์หิน EUV รุ่น 2 นาโนเมตร
DNP จะทำหน้าที่เป็นผู้รับเหมาช่วงในการพัฒนาเทคโนโลยีกระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูง (การดำเนินงาน) โดย Rapidus โดยเป็นส่วนหนึ่งของโครงการ R&D ของ NEDO ที่กล่าวถึงก่อนหน้านี้

[อนาคต]
ในปีงบประมาณ 2025 DNP จะเสร็จสิ้นการพัฒนากระบวนการผลิตสำหรับโฟโต้มาสก์สำหรับเซมิคอนดักเตอร์ลอจิกรุ่น 2 นาโนเมตรที่รองรับภาพพิมพ์หิน EUV นับจากปีงบประมาณ 2026 เป็นต้นไป เราจะผลักดันการจัดตั้งเทคโนโลยีการผลิตโดยมีเป้าหมายที่จะเริ่มต้นการผลิตปริมาณมากในปีงบประมาณ 2027
นอกจากนี้ เรายังเริ่มการพัฒนาโดยมุ่งเน้นที่รุ่น 2 นาโนเมตรและรุ่นถัดไป และเรามีการลงนามข้อตกลงกับ imec ซึ่งเป็นองค์กรวิจัยระดับนานาชาติที่ล้ำสมัย ซึ่งมีสำนักงานใหญ่อยู่ที่ Leuven, Belgium โดยร่วมกันพัฒนาโฟโต้มาสก์ EUV รุ่นถัดไป DNP จะยังคงสนับสนุนการเติบโตของอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ของญี่ปุ่น โดยส่งเสริมการพัฒนาความร่วมมือกับพันธมิตรต่างๆ ภายในขอบเขตงานของอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ระดับนานาชาติ

รายละเอียดเพิ่มเติม

เกี่ยวกับ DNP

DNP ก่อตั้งขึ้นในปี 1876 และได้กลายเป็นบริษัทชั้นนำระดับโลกที่ใช้ประโยชน์จากโซลูชันด้านการพิม์เพื่อสร้างโอกาสใหม่ๆ ทางธุรกิจ ในขณะเดียวกัน จะมีการปกป้องสิ่งแวดล้อมและสร้างโลกที่มีชีวิตชีวายิ่งขึ้นสำหรับทุกคน เราใช้ประโยชน์จากความสามารถหลักในการผลิตไมโครแฟบริเคชั่นและเทคโนโลยีการเคลือบที่มีความแม่นยำสูง เพื่อจัดหาผลิตภัณฑ์สำหรับตลาดจอแสดงผล อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ และฟิล์มกรองแสง เรายังมีการพัฒนาผลิตภัณฑ์ใหม่ เช่น ห้องไอน้ำ และอาร์เรย์สะท้อนที่นำเสนอโซลูชันการสื่อสารยุคใหม่สำหรับข้อมูลที่เป็นมิตรต่อผู้คนยิ่งขึ้น

สามารถรับชมภาพในรูปแบบมัลติมีเดียได้ที่https://www.businesswire.com/news/home/53912205/en

เนื้อหาใจความในภาษาต้นฉบับของข่าวประชาสัมพันธ์ฉบับนี้เป็นฉบับที่เชื่อถือได้และเป็นทางการ การแปลต้นฉบับนี้จึงมีจุดประสงค์เพื่ออำนวยความสะดวกเท่านั้น และควรนำไปเทียบเคียงอ้างอิงกับเนื้อหาในภาษาต้นฉบับ ซึ่งเป็นฉบับเดียวที่มีผลทางกฎหมาย

ติดต่อ

ผู้ติดต่อสำหรับสื่อ
DNP: Yusuke Kitagawa, +81-3-6735-0101
kitagawa-y3@mail.dnp.co.jp

แหล่งข้อมูล: Dai Nippon Printing Co., Ltd.